آندیزاسیون سخت آرایه ای نانوحفره ای آلومینای منظم در ولتاژ آندیزاسیون 35 تا 60 ولت

در این کار یک روش موثر در ساخت نانو ساختار آلومینای آندایز شده حفره دار منظم با الکترولیت ترکیبی اسید اکسالیک و اسید سولفوریک در بازه ولتاژی 35 الی 60 ولت (که بزرگتر از ولتاژ متداول مورد استفاده در روش آندایز نرم با اسید سولفوریک،اسید اکسالیک و یا ترکیب این دو اسید است), معرفی شده, و تاثیر متغیر های مختلف در فرایند آندایز سخت بررسی گردیده است. هدف ما در این کار پوشش فواصل بین حفره ای از 70 الی 130 نانومتر در روش آندایز سخت و رسیدن به نظم بیشتر نمونه ها بوسیله تغییر الکترولیت و ولتاژ آندایز می باشد.در اینجا ما نمونه هایی با الکترولیت ترکیبی اسید اکسالیک 0/4 مولار و اسید سولفوریک با غلظت های 0/07و 0/08و 0/09و 0/10و 0/11و 0/15 و 0/20 مولار آندایز کرده ایم. در آندایز نمونه ها, چگالی جریان نسبت به ولتاژ نهایی آندایزاسیون سه رفتار متفاوت نشان می دهد.چگالی جریان تا یک ولتاژ آندیزاسیون معین نمودار نمایی نشان می دهد و پس از آن نمودار چگالی جریان در یک بازه مشخص آندیزاسیون به صورت نوسانی ظاهر می شود و در نهایت با افزایش ولتاژ نمودار جریان با نشان دادن یک بیشینه مضاعف به صورت نمایی کاهش می یابد. در بررسی دیگر به مطالعه اثرتغییر آهنگ ولتاژ بر میزان آرایه شدن و جلوگیری از سوختگی موضعی نمونه ها پرداخته شد ,که با کم کردن آهنگ افزایش ولتاژ در هنگام آندایز اثر سوختگی در نمونه ها به طور کامل مرتفع گردید. همچنین در این کار اثر جریان بر فاصله بین حفره ای مطالعه شد که در این بررسی با استفاده از ترکیب, اسید اکسالیک 4/0مولار و اسید سولفوریک 0/11 مولار در ولتاژ آندایز 40 ولت نمونه های متفاوت ساخته شده در زمان های آندایز 15 , 30 , 45 , 60 و 90 دقیقه مورد مطالعه قرار گرفت.